自 2025 年 4 月新一輪中美關稅博弈啟動，全球科技產(chǎn)業(yè)鏈陷入震蕩，UV 光固化與光刻膠產(chǎn)業(yè)也被卷入這場風暴，面臨著前所未有的挑戰(zhàn)與機遇。

　　關稅沖擊下的產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀

　　成本飆升：產(chǎn)業(yè)鏈的沉重負擔

　　美國在半導體設備和材料領域占據(jù)技術與市場優(yōu)勢，中國相關企業(yè)對美國供應商存在一定依賴。關稅加征使進口設備和材料價格大幅上漲，以光刻膠為例，其關鍵原材料部分依賴進口，關稅導致采購成本顯著增加，企業(yè)生產(chǎn)成本控制難度劇增。在 UV 光固化產(chǎn)業(yè)，從光引發(fā)劑到相關設備，若涉及美國進口，成本均受沖擊。如國內(nèi)某 UV 光固化產(chǎn)品生產(chǎn)企業(yè)，因部分光引發(fā)劑從美國進口，關稅后采購成本上漲 20% - 30%，嚴重壓縮利潤空間。

　　供應鏈斷裂風險加劇

　　關稅打亂原有供應鏈節(jié)奏，美國供應商或因成本考量減少供貨甚至中斷合作，貨物運輸也面臨清關時間延長、物流成本增加等問題。在光刻膠產(chǎn)業(yè)，日本雖為光刻膠供應大國，但中美關稅戰(zhàn)背景下，供應鏈穩(wěn)定性受影響，一旦美國對相關原材料出口進一步限制，依賴進口光刻膠及原材料的企業(yè)將面臨停產(chǎn)風險。UV 光固化產(chǎn)業(yè)同樣如此，若關鍵零部件供應受阻，生產(chǎn)將陷入停滯，部分企業(yè)已開始囤積 6 個月庫存以應對可能的供應中斷。

　　產(chǎn)業(yè)內(nèi)部的應對之策

　　國產(chǎn)替代加速推進

　　面對關稅帶來的進口阻礙，中國政府與企業(yè)加大在相關領域研發(fā)投入與政策支持力度，推動國產(chǎn)替代進程。在光刻膠方面，國家大基金三期投入超 500 億元支持研發(fā)，南大光電的 ArF 光刻膠已通過 28nm 制程驗證，2025 年規(guī)劃產(chǎn)能達 5000 噸;晶瑞電材 KrF 光刻膠已通過中芯國際驗證，ArF 光刻膠研發(fā)順利，受益于政策支持，目標 2025 年國產(chǎn)化率提升至 10%。在 UV 光固化產(chǎn)業(yè)，國內(nèi)企業(yè)也在積極突破技術瓶頸，減少對進口光引發(fā)劑等原材料的依賴，部分企業(yè)已在電子行業(yè)用 UV 光固化膠粘劑開發(fā)方面取得成果，應用于手機揚聲器、攝像模組等領域 。

　　企業(yè)積極調(diào)整策略

　　相關企業(yè)通過技術替代、國內(nèi)供應鏈調(diào)整及提前備貨等策略降低風險。南大光電明確原材料主要來自國內(nèi)供應商，對美國市場直接出口收入占比不足 0.5%，且通過國產(chǎn)替代和提前備貨，降低供應鏈中斷風險。久日新材對美國市場出口占總營業(yè)收入約 8%，因多數(shù)產(chǎn)品未被關稅覆蓋，短期內(nèi)美國市場對其光引發(fā)劑需求依舊強勁。部分企業(yè)還加速向其他地區(qū)轉移產(chǎn)能，雖面臨遷移成本與效率損失，但一定程度上緩解關稅壓力 。

　　長遠視角下的發(fā)展趨勢

　　技術創(chuàng)新成為核心驅動力

　　在關稅戰(zhàn)背景下，企業(yè)更重視技術創(chuàng)新以提升競爭力。光刻膠產(chǎn)業(yè)中，7nm 以下先進制程所需的 EUV 光刻膠成為研發(fā)重點，國內(nèi)企業(yè)正加大研發(fā)投入以期突破。UV 光固化產(chǎn)業(yè)也在不斷探索新技術，如研發(fā)高效光引發(fā)體系、拓展單體與交聯(lián)劑選擇范圍等，以提升固化效率、改善產(chǎn)品性能、降低成本，滿足市場對高性能、環(huán)保產(chǎn)品的需求 。

　　產(chǎn)業(yè)格局重塑與市場機遇涌現(xiàn)

　　關稅戰(zhàn)促使全球 UV 光固化與光刻膠產(chǎn)業(yè)格局重塑。一方面，國內(nèi)企業(yè)憑借國產(chǎn)替代機遇擴大市場份額;另一方面，新興技術如量子計算芯片、碳納米管芯片等發(fā)展，為光刻膠及相關材料帶來新應用場景。同時，物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、大數(shù)據(jù)等領域快速發(fā)展，對半導體及相關材料需求大增，UV 光固化與光刻膠產(chǎn)業(yè)作為基礎，有望在新應用場景中開拓市場，迎來新增長點 。